СОВРЕМЕННОЕ СОСТОЯНИЕ ИССЛЕДОВАНИЙ ФОТОРЕЗИСТИВНЫХ И ФОТОВОЛЬТАИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ТОНКИХ ПЛЕНОК ХАЛЬКОГЕНИДОВ КАДМИЯ

Authors

  • Рустамжон Ўктамович Сиддиқов Кокандский филиал Ташкентского государственного технического университета имени Ислама Каримова

Keywords:

полупроводник, фоторезистор, фотоэлектрические свойства, слой, фотопроводимость

Abstract

В статье приведены рассуждения о получения тонких пленок и гибридных пленочных структур из халькогенидов кадмия с аномальными фотоэлектрическими свойствами и изучение в них новых закономерностей фотопроводимости и фотополяризации.

References

Л. Н. Маскаева, Е. А. Федорова, В. Ф. Марков. “Технология тонких пленок и покрытий”. Екатеринбург. Издательство Уральского университета 2019 год.

Антоненко С. В. Технология тонких пленок : учеб. пособие / С. В. Антоненко. – М. : МИФИ, 2008. – 104 с.

Фотоэлектрические явления в полупроводниках и оптоэлектроника. Э.И.Адирович, Э.М.Мастов, Т.М.Мирзамахмудов и др. Под редакцией академика Э.И. Адировича. – Ташкент: «Фан», 1972. – 343 с.

Алфёров Ж.И. История и будущее полупроводниковых гетероструктур. Физика и техника полупроводников. – Санкт - Петербург. 1998. - №1.

Рывкин С.М. Фотоэлектрические явления в полупроводниках. Москва: Физматгиз, 1963.- 262 с.

Downloads

Published

2021-03-26

How to Cite

Сиддиқов, Р. Ў. (2021). СОВРЕМЕННОЕ СОСТОЯНИЕ ИССЛЕДОВАНИЙ ФОТОРЕЗИСТИВНЫХ И ФОТОВОЛЬТАИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ТОНКИХ ПЛЕНОК ХАЛЬКОГЕНИДОВ КАДМИЯ. Science and Education, 2(3), 221-225. Retrieved from https://openscience.uz/index.php/sciedu/article/view/1130

Issue

Section

Technical Sciences